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  1. 学術雑誌論文
  2. 5 技術(工学)

Interaction between n‐type amorphous hydrogenated silicon films and metal electrodes

http://hdl.handle.net/10228/1508
http://hdl.handle.net/10228/1508
a03ae38a-a903-46c9-8c47-b1b318cd7ad7
名前 / ファイル ライセンス アクション
kohiki_31.pdf kohiki_31.pdf (5.1 MB)
アイテムタイプ 学術雑誌論文 = Journal Article(1)
公開日 2009-02-20
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
タイトル
タイトル Interaction between n‐type amorphous hydrogenated silicon films and metal electrodes
言語 en
言語
言語 eng
著者 Ishihara, S

× Ishihara, S

WEKO 4982

en Ishihara, S

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Hirao, T

× Hirao, T

WEKO 4983

en Hirao, T

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Mori, K

× Mori, K

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Kitagawa, M

× Kitagawa, M

WEKO 4985

en Kitagawa, M

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Ohno, M

× Ohno, M

WEKO 4986

en Ohno, M

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古曵, 重美

× 古曵, 重美

WEKO 20416
e-Rad 00261248
Scopus著者ID 35414509400

en Kohiki, Shigemi

ja 古曵, 重美

ja-Kana コヒキ, シゲミ


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The interactions of Al and NiCr electrodes with hydrogenated n -type amorphous silicon films have been investigated in a temperature range of 100-300 degrees C. It was found that pits were produced in the a-Si films at temperatures above 170 degrees C in the case of Al electrodes, while they were not observed in the case of NiCr electrodes even if heat-treated at a temperature of 350 degrees C. From the Auger electron spectroscopy measurements, it was shown that a marked interdiffusion of Al and Si occurs. The sheet resistance of the a-Si films began to increase at temperatures above 170 degrees C. The contact resistivity between the a-Si films and Al electrodes could not be determined in the case of a-Si films with usual low conductivity. For the specimens with high conductivity [ σ ~1( Omega cm)-1], the value of about 1*10-3 Omega cm2 was obtained
言語 en
書誌情報 en : Journal of Applied Physics

巻 53, 号 5, p. 3909-3911, 発行日 1982-03-01
出版社
出版者 American Institute of Physics
言語 en
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1063/1.331098
CRID
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ URI
関連識別子 https://cir.nii.ac.jp/crid/1050001202929725056
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
ISSN
収録物識別子タイプ EISSN
収録物識別子 1089-7550
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0021-8979
著作権関連情報
権利情報 Copyright © 1982 American Institute of Physics.This article may be downloaded for personal use only.Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.
キーワード
主題Scheme Other
主題 films
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主題Scheme Other
主題 chemical reactions
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主題Scheme Other
主題 silanes
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主題Scheme Other
主題 metals
キーワード
主題Scheme Other
主題 n&minus
キーワード
主題Scheme Other
主題 type conductors
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主題Scheme Other
主題 amorphous state
キーワード
主題Scheme Other
主題 silicon
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主題Scheme Other
主題 electrodes
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主題Scheme Other
主題 aluminium
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主題Scheme Other
主題 nickel alloys
キーワード
主題Scheme Other
主題 chromium alloys
キーワード
主題Scheme Other
主題 medium Temperatur
キーワード
主題Scheme Other
主題 high Temperature
キーワード
主題Scheme Other
主題 data
キーワード
主題Scheme Other
主題 heat treatments
キーワード
主題Scheme Other
主題 auger electron spectroscopy
キーワード
主題Scheme Other
主題 temperature dependence
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
査読の有無
値 yes
業績ID
値 B042BD8DDEC8F3A349257561002024DB
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Ver.1 2023-05-15 14:11:09.912098
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