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  1. 学術雑誌論文
  2. 4 自然科学

Fabrication and characterization of Bi0.4Te3.0Sb1.6 thin films by flash evaporation method

http://hdl.handle.net/10228/385
http://hdl.handle.net/10228/385
4c07b7a8-6204-4580-ba37-92caf3ab8e73
名前 / ファイル ライセンス アクション
Text_j.jallcom.2006.09.136.pdf Text_j.jallcom.2006.09.136.pdf (168.6 kB)
Figure_j.jallcom.2006.09.136.pdf Figure_j.jallcom.2006.09.136.pdf (332.2 kB)
Item type 学術雑誌論文 = Journal Article(1)
公開日 2007-11-22
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
タイトル
タイトル Fabrication and characterization of Bi0.4Te3.0Sb1.6 thin films by flash evaporation method
言語 en
その他のタイトル
その他のタイトル Fabrication and characterization of (Bi2Te3)0.2(Sb2Te3)0.8 compounds thin films by flash evaporated deposition
言語 en
言語
言語 eng
著者 Takashiri, M.

× Takashiri, M.

WEKO 674

en Takashiri, M.

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Shirakawa, T.

× Shirakawa, T.

WEKO 675

en Shirakawa, T.

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宮崎, 康次

× 宮崎, 康次

WEKO 679
e-Rad 70315159
Scopus著者ID 7403193768
ORCiD 0000-0001-6002-343X

ja 宮崎, 康次

en Miyazaki, Koji

ja-Kana ミヤザキ, コウジ


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塚本, 寛

× 塚本, 寛

WEKO 673
e-Rad 50117305

en Tsukamoto, Hiroshi

ja 塚本, 寛

ja-Kana ツカモト, ヒロシ


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Bi0.4Te3.0Sb1.6 thin films on glass substrates are fabricated by a flash evaporation method. In order to enhance the transport properties of the thin films, annealing in argon ambient at atmospheric pressure is carried out for 1 h in the temperature range from 200 to 400 °C. The structure of the thin films, in terms of homogeneous composition and crystallinity, is investigated by energy dispersive X-ray spectroscopy and X-ray diffraction, respectively. The microstructure of the thin films is examined using scanning electron microscopy. We confirm that as-deposited Bi0.4Te3.0Sb1.6 thin films have a mostly homogeneous structure except for a few extra stuck particles. At higher annealing temperatures, the crystallinity of the thin films is improved and the size of crystal grains increases to the same size as the film thickness. However, excessive high annealing temperatures cause porous thin films due to the evaporation of tellurium. The transport properties of the thin films, in terms of the electrical resistivity, the Seebeck coefficient and the thermoelectric power factor are determined at room temperature. By optimizing the annealing conditions, it is possible to obtain a high-performance thin film with a thermoelectric power factor of 12.2 μW cm−1 K−2. We consider that the performance of the thin films is enhanced for optimized annealing because of reductions in the importance of grain boundary scattering.
言語 en
書誌情報 en : Journal of Alloys and Compounds

巻 441, 号 1-2, p. 246-250, 発行日 2007-08-30
出版社
出版者 Elsevier
DOI
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2006.09.136
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0925-8388
ISSN
収録物識別子タイプ EISSN
収録物識別子 1873-4669
著作権関連情報
権利情報 Copyright (c) 2006 Elsevier B.V.
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thin film
キーワード
主題Scheme Other
主題 Flash evaporation
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thermoelectric
キーワード
主題Scheme Other
主題 Annealing
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
査読の有無
値 yes
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Ver.1 2023-05-15 12:32:08.988832
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