WEKO3
アイテム
Ｈ2プラズマスパッタリング法によるSi基板上への3C-SiC薄膜の作製に関する研究
https://doi.org/10.11501/3142161
https://doi.org/10.11501/3142161ef0d4cec-578f-4332-a120-63da5ae3079a
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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jou_o_5.pdf (37.7 MB)
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| アイテムタイプ | 学位論文 = Thesis or Dissertation(1) | |||||||
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| 公開日 | 2009-03-02 | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | Ｈ2プラズマスパッタリング法によるSi基板上への3C-SiC薄膜の作製に関する研究 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | jpn | |||||||
| 著者 |
園田, 信夫
× 園田, 信夫
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| 備考 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 九州工業大学博士学位論文 学位記番号:情工博乙第5号 学位授与年月日:平成10年3月25日 | |||||||
| 学位授与番号 | ||||||||
| 学位授与番号 | 乙第5号 | |||||||
| 学位名 | ||||||||
| 学位名 | 博士（情報工学） | |||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||
| 学位授与年月日 | 1998-03-25 | |||||||
| 学位授与機関 | ||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||
| 学位授与機関識別子 | 17104 | |||||||
| 学位授与機関名 | 九州工業大学 | |||||||
| 学位授与年度 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 平成9年度 | |||||||
| 出版タイプ | ||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||
| アクセス権 | ||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||
| ID登録 | ||||||||
| ID登録 | 10.11501/3142161 | |||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||
