WEKO3
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レーザCVD法によるSiC薄膜の作成
http://hdl.handle.net/10228/4420
http://hdl.handle.net/10228/4420b9b5dbd3-a32c-4512-ae24-56b4e961e34d
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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tech61_p27_32.pdf (399.5 kB)
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| Item type | 紀要論文 = Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2010-01-28 | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | レーザCVD法によるSiC薄膜の作成 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Deposition of SiC Films using ArF Eximer Laser | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 著者 |
植村, 隆之
× 植村, 隆之× 大本, 辰郎× 北原, 功一× 水波, 徹× 遠山, 尚武 |
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| 書誌情報 |
九州工業大学研究報告. 工学 en : Bulletin of the Kyushu Institute of Technology. Science and technology 号 61, p. 27-32, 発行日 1990-09-01 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 九州工業大学工学部 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0453-0357 | |||||
| 版 | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 査読の有無 | ||||||
| 値 | no | |||||
