@inproceedings{oai:kyutech.repo.nii.ac.jp:00005282,
 author = {金田,  寛 and 米澤,  英晃 and Omura, Ichiro and 大村, 一郎},
 book = {応用物理学会秋季学術講演会},
 month = {Sep},
 note = {第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・福岡国際センター・福岡サンパレスホテル（福岡市), 2017年9月5日-8日},
 publisher = {社団法人応用物理学会},
 title = {シリコンウェーハにおける自由キャリアのバルク・表面再結合拡散モデル： II.キャリア濃度分布},
 volume = {2017},
 year = {2017},
 yomi = {オオムラ, イチロウ}
}