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  1. 学術雑誌論文
  2. 5 技術(工学)

Comparisons of instability in device characteristics at high temperature for thin-film SOI power n- and p- channel MOSFETs

http://hdl.handle.net/10228/00008097
http://hdl.handle.net/10228/00008097
d3a2cc14-8e55-4872-87f1-b7a11efc2a53
名前 / ファイル ライセンス アクション
nperc170.pdf nperc170.pdf (996.0 kB)
アイテムタイプ 学術雑誌論文 = Journal Article(1)
公開日 2021-03-23
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
タイトル
タイトル Comparisons of instability in device characteristics at high temperature for thin-film SOI power n- and p- channel MOSFETs
言語 en
言語
言語 eng
著者 Kaneda, Masanobu

× Kaneda, Masanobu

WEKO 29543

en Kaneda, Masanobu

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Ariyoshi, Kazuma

× Ariyoshi, Kazuma

WEKO 29544

en Ariyoshi, Kazuma

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松本, 聡

× 松本, 聡

WEKO 27142
e-Rad_Researcher 10577282
Scopus著者ID 57194100450

ja 松本, 聡

en Matsumoto, Satoshi

ja-Kana マツモト, サトシ


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 This paper investigate instability in device characteristics related to the hot carrier effect, Negative Bias Temperature Instability (NBTI) and Positive Bias Temperature (PBTI) under DC stress for n- and p-channel thin-film Silicon on Insulator (SOI) power MOSFET at high temperature. The threshold voltage shift increases as the temperature rises due to PBTI for n-MOSFET and NBTI for p-MOSFET. Drain Avalanche Hot Carrier (DAHC) occurs when the gate stress voltage is near the threshold voltage and Channel Hot Carrier (CHC) occurs when the gate voltage is high. The threshold voltage shift and the degradation rate of on-resistance of the n-MOSFET is larger than that of the p-MOSFET due to the difference in the impact ionization coefficient between electrons and holes.
備考
内容記述タイプ Other
内容記述 2020 IEEE Region 10 Conference (TENCON), 16-19 November, 2020, Osaka, Japan(新型コロナ感染拡大に伴い、オンライン開催に変更)
書誌情報 2020 IEEE REGION 10 CONFERENCE (TENCON)

発行日 2020-12-22
出版社
出版者 IEEE
DOI
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1109/TENCON50793.2020.9293695
ISBN
識別子タイプ ISBN
関連識別子 978-1-7281-8455-5
ISBN
識別子タイプ ISBN
関連識別子 978-1-7281-8456-2
ISSN
収録物識別子タイプ EISSN
収録物識別子 2159-3450
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 2159-3442
著作権関連情報
権利情報 Copyright (c) 2020 IEEE. Personal use of this material is permitted. Permission from IEEE must be obtained for all other uses, in any current or future media, including reprinting/republishing this material for advertising or promotional purposes, creating new collective works, for resale or redistribution to servers or lists, or reuse of any copyrighted component of this work in other works.
キーワード
主題Scheme Other
主題 Hot carrier effect
キーワード
主題Scheme Other
主題 Negative bias temperature instability
キーワード
主題Scheme Other
主題 Positive bias temperature instability
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thin-film SOI power MOSFET
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
査読の有無
値 yes
連携ID
値 8626
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Ver.1 2023-05-15 13:25:09.795774
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