WEKO3
アイテム / Effects of hydrogen in working gas on valence states of oxygen in sputter-deposited indium tin oxide thin films / acsami2_3_663
acsami2_3_663
ファイル | ライセンス |
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acsami2_3_663.pdf (706.7 kB) sha256 23a0dd1c68c19fdd756af659abdcf152deca8efea29f64172cdf829e0c979481 |
公開日 | 2017-06-02 | |||||
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ファイル名 | acsami2_3_663.pdf | |||||
本文URL | https://kyutech.repo.nii.ac.jp/record/5017/files/acsami2_3_663.pdf | |||||
ラベル | acsami2_3_663.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 706.7 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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