WEKO3
アイテム
光反応誘起相分離を利用した多孔質膜の形成に関する研究
https://doi.org/10.18997/00007553
https://doi.org/10.18997/000075536ee79f07-9148-4a96-a170-2b2a6327cf97
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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kou_k_482.pdf (6.0 MB)
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| Item type | 学位論文 = Thesis or Dissertation(1) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2020-01-22 | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | 光反応誘起相分離を利用した多孔質膜の形成に関する研究 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | Formation mechanism of porous polymer films in photoinduced phase separating coatings | |||||||
| 言語 | en | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | jpn | |||||||
| 著者 |
吉原, 宏和
× 吉原, 宏和
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| 目次 | ||||||||
| 内容記述タイプ | TableOfContents | |||||||
| 内容記述 | 第1章 序論||第2章 共焦点ラマン分光による光反応性塗膜の局所組成評価手法の開発||第3章 相分離膜内部の材料分布||第4章 反応誘起相分離による多孔膜の非対称性||第5章 反応誘起相分離膜の濃度分布に与える照射前乾燥の影響||第6章 結論と今後の展望 | |||||||
| 備考 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 九州工業大学博士学位論文 学位記番号：工博甲第482号 学位授与年月日：令和元年9月20日 | |||||||
| キーワード | ||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||
| 主題 | 多孔質膜 | |||||||
| キーワード | ||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||
| 主題 | 乾燥 | |||||||
| キーワード | ||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||
| 主題 | 相分離 | |||||||
| キーワード | ||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||
| 主題 | 重合 | |||||||
| キーワード | ||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||
| 主題 | ラマン分光 | |||||||
| アドバイザー | ||||||||
| 山村, 方人 | ||||||||
| 学位授与番号 | ||||||||
| 学位授与番号 | 甲第482号 | |||||||
| 学位名 | ||||||||
| 学位名 | 博士（工学） | |||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||
| 学位授与年月日 | 2019-09-20 | |||||||
| 学位授与機関 | ||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||
| 学位授与機関識別子 | 17104 | |||||||
| 学位授与機関名 | 九州工業大学 | |||||||
| 学位授与年度 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 令和元年度 | |||||||
| 出版タイプ | ||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||
| アクセス権 | ||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||
| ID登録 | ||||||||
| ID登録 | 10.18997/00007553 | |||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||
