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  1. 学術雑誌論文
  2. 4 自然科学

フラッシュ蒸着法によるn形ビスマステルライド系薄膜の生成

http://hdl.handle.net/10228/3617
http://hdl.handle.net/10228/3617
a71e548c-e452-4248-91ba-0415afff5582
名前 / ファイル ライセンス アクション
110004997349.pdf 110004997349.pdf (828.9 kB)
アイテムタイプ 学術雑誌論文 = Journal Article(1)
公開日 2010-01-15
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
タイトル
タイトル フラッシュ蒸着法によるn形ビスマステルライド系薄膜の生成
言語 ja
タイトル
タイトル Fabrication of n-type Bismuth-Telluride Thin Films by Flash Evaporation Method
言語 en
言語
言語 jpn
著者 高尻, 雅之

× 高尻, 雅之

WEKO 8859

ja 高尻, 雅之

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白川, 寿照

× 白川, 寿照

WEKO 8860

ja 白川, 寿照

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宮崎, 康次

× 宮崎, 康次

WEKO 679
e-Rad 70315159
Scopus著者ID 7403193768
ORCiD 0000-0001-6002-343X

ja 宮崎, 康次

en Miyazaki, Koji

ja-Kana ミヤザキ, コウジ


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塚本, 寛

× 塚本, 寛

WEKO 673
e-Rad 50117305

en Tsukamoto, Hiroshi

ja 塚本, 寛

ja-Kana ツカモト, ヒロシ


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 n-type bismuth-telluride thin films are fabricated by flash evaporation method. Effects of hydrogen annealing on the thin films are investigated for potential application in micro thermoelectric devices. The thin films are grown up to 1 μm on a glass substrate by flash evaporation method. The hydrogen annealing is carried out in the temperature range between 200-350℃ on an atmospheric pressure. The electrical resistivity and Seebeck coefficient are measured at room temperature. Both the electrical resistivity and Seebeck coefficient are improved by the treatment of hydrogen annealing, then the power factor of the n-type bismuth-telluride thin film reaches 8.8μW・cm^<-1>・K^2 at annealing temperature of 350℃. The structure of the thin films, which is composition and crystallinity, is studied by electron probe micro analyzer and X-ray diffraction pattern, respectively. The composition of bismuth-telluride thin films is relativity constant until higher annealing temperature. The X-ray diffraction patterns indicate that the crystallinity of the thin films is improved as higher annealing temperature.
言語 en
書誌情報 ja : 日本機械学會論文集. A編
en : Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. A

巻 72, 号 723, p. 1793-1798, 発行日 2006-11-25
出版社
出版者 日本機械学会
言語 ja
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1299/kikaia.72.1793
CRID
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ URI
関連識別子 https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204477393024
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN0018742X
ISSN
収録物識別子タイプ EISSN
収録物識別子 1884-8338
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0387-5008
著作権関連情報
権利情報 社団法人日本機械学会. 本文データは学協会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである
キーワード
主題Scheme Other
主題 Flash Evaporation Method
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thermoelectrics
キーワード
主題Scheme Other
主題 Seebeck Effect
キーワード
主題Scheme Other
主題 Peltier Effect
キーワード
主題Scheme Other
主題 Hydrogen Annealing
キーワード
主題Scheme Other
主題 Bismuth-Telluride Thin Film
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
査読の有無
値 yes
業績ID
値 7E7EB5396E789A8C492576700021D31E
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Ver.1 2023-05-15 13:05:03.446793
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