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  1. 学術雑誌論文
  2. 4 自然科学

Explosive crystallization of sputter-deposited amorphous germanium films by irradiation with an electron beam of SEM-level energies

http://hdl.handle.net/10228/00008408
http://hdl.handle.net/10228/00008408
b8dd9024-e6ad-4ecb-bacb-181022eada6f
名前 / ファイル ライセンス アクション
JAP21-AR-01739.pdf JAP21-AR-01739.pdf (2.3 MB)
アイテムタイプ 学術雑誌論文 = Journal Article(1)
公開日 2021-07-27
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
タイトル
タイトル Explosive crystallization of sputter-deposited amorphous germanium films by irradiation with an electron beam of SEM-level energies
言語 en
言語
言語 eng
著者 Nakamura, R.

× Nakamura, R.

WEKO 31031

en Nakamura, R.

Search repository
Matsumoto, A.

× Matsumoto, A.

WEKO 31032

en Matsumoto, A.

Search repository
石丸, 学

× 石丸, 学

WEKO 25703
e-Rad 00264086
Scopus著者ID 7005976063
九工大研究者情報 100000642

en Ishimaru, Manabu

ja 石丸, 学

ja-Kana イシマル, マナブ


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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The crystallization of sputter-deposited substrate-free films of amorphous germanium was induced by electron irradiation at SEM-level energies of less than 20 keV at ambient temperature using an electron probe microanalyzer. Instantaneous crystallization, referred to as explosive crystallization, occurred consistently at 2–20 keV; the threshold of electron fluxes is 1015–1016 m−2 s−1, which is five to six orders of magnitude lower than those at 100 keV reported previously. This process is expected to be advantageous in the production of polycrystalline Ge films since it is rapid, requires little energy, and results in negligible damage to the substrate.
言語 en
書誌情報 en : Journal of Applied Physics

巻 129, 号 21, p. 215301, 発行日 2021-06-01
出版社
出版者 American Institute of Physics
言語 en
DOI
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1063/5.0052142
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 420
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0021-8979
ISSN
収録物識別子タイプ EISSN
収録物識別子 1089-7550
著作権関連情報
権利情報 This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and AIP Publishing. This article appeared in Journal of Applied Physics and may be found at https://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0052142.
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
査読の有無
値 yes
研究者情報
URL https://hyokadb02.jimu.kyutech.ac.jp/html/100000642_ja.html
論文ID(連携)
値 10367530
連携ID
値 9025
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Ver.1 2023-05-15 13:17:33.762588
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