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  1. 学位論文
  2. 学位論文

イオン化スパッタ法による微細金属配線成膜に関する研究

https://doi.org/10.18997/00000784
https://doi.org/10.18997/00000784
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名前 / ファイル ライセンス アクション
D-26_sei_k_72.pdf D-26_sei_k_72.pdf (1.5 MB)
Item type 学位論文 = Thesis or Dissertation(1)
公開日 2008-09-25
タイトル
言語 ja
タイトル イオン化スパッタ法による微細金属配線成膜に関する研究
タイトル
言語 en
タイトル Study of fine metallic wiring using ionized sputtering
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
資源タイプ doctoral thesis
ID登録
ID登録 10.18997/00000784
ID登録タイプ JaLC
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 松中, 繁樹

× 松中, 繁樹

ja 松中, 繁樹

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目次
内容記述タイプ Other
内容記述 第1章 序論||第2章 イオン化スパッタに適したマグネット構造||第3章 イオン化スパッタによるゲート酸化膜ダメージの評価||第4章 ビアバリアメタル形成用イオン化スパッタ開発||第5章 300mm基板のバリア成膜用イオン化スパッタ開発||第6章 結論||謝辞||付録 A 発光分光による電子温度算出||付録 B プラズマシミュレーション||付録 B スパッタシミュレーション||参考文献
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 九州工業大学博士学位論文 学位記番号:生工博甲第72号 学位授与年月日:平成20年3月25日
キーワード
主題Scheme Other
主題 Ionized sputter
キーワード
主題Scheme Other
主題 Diverging magnetic field
キーワード
主題Scheme Other
主題 Bottom coverage
キーワード
主題Scheme Other
主題 Barrier metal
キーワード
主題Scheme Other
主題 Unbalanced magnet
キーワード
主題Scheme Other
主題 Antenna MOS
キーワード
主題Scheme Other
主題 Asymmetry property
キーワード
主題Scheme Other
主題 Via
アドバイザー
早瀬, 修二
学位名
学位名 博士(工学)
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 17104
学位授与機関名 九州工業大学
学位授与年度
内容記述タイプ Other
内容記述 平成19年度
学位授与年月日
学位授与年月日 2008-03-25
学位授与番号
学位授与番号 甲生工第72号
版
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
査読の有無
値 yes
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Ver.1 2023-05-15 12:41:15.049898
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